Amorphization of Silicon by High Dose Germanium Ion Implantation with no External Cooling Mechanism
Julkaisuvuosi
1994
Tekijät
Xia, Z.; Saarilahti, J.; Ristolainen, Eero O.; Eränen, Simo; Ronkainen, Hannu; Kuivalainen, P.; Paine, D.; Tuomi, T.
Organisaatiot ja tekijät
Aalto-yliopisto
Kuivalainen Pekka
Julkaisutyyppi
Julkaisumuoto
Artikkeli
Emojulkaisun tyyppi
Lehti
Artikkelin tyyppi
Alkuperäisartikkeli
Yleisö
TieteellinenVertaisarvioitu
VertaisarvioituOKM:n julkaisutyyppiluokitus
A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessäJulkaisukanavan tiedot
Lehti
Applied Surface Science
Kustantaja
Elsevier
Volyymi
78
Sivut
321-330
Avoin saatavuus
Avoin saatavuus kustantajan palvelussa
Ei
Rinnakkaistallennettu
Ei
Muut tiedot
Avainsanat
[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]
Kustantajan kansainvälisyys
Kansainvälinen
Kieli
englanti
Kansainvälinen yhteisjulkaisu
Ei
Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa
Ei
DOI
10.1016/0169-4332(94)90021-3
Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen
Kyllä