High pressure annealing of HVPE GaN free-standing films Redistribution of defects and stress
Julkaisuvuosi
2005
Tekijät
Paskova, T.; Suski, T.; Bockowski, M.; Paskov, P. P.; Darakchieva, V.; Monemar, B.; Tuomisto, F.; Saarinen, K.; Ashkenov, N.; Schubert, M.; Roder, C.; Hommel, D.
Organisaatiot ja tekijät
Aalto-yliopisto
Tuomisto Filip 
Julkaisutyyppi
Julkaisumuoto
Artikkeli
Emojulkaisun tyyppi
Konferenssi
Artikkelin tyyppi
Muu artikkeli:
Yleisö
TieteellinenVertaisarvioitu
VertaisarvioituOKM:n julkaisutyyppiluokitus
A4 Artikkeli konferenssijulkaisussaJulkaisukanavan tiedot
Lehti/Sarja
Emojulkaisun nimi
Konferenssi
Kustantaja
Volyymi
831
Sivut
429-434
ISSN
ISBN
Julkaisufoorumi
Julkaisufoorumitaso
1
Avoin saatavuus
Avoin saatavuus kustantajan palvelussa
Ei
Rinnakkaistallennettu
Ei
Muut tiedot
Kustantajan kansainvälisyys
Kansainvälinen
Kieli
englanti
Kansainvälinen yhteisjulkaisu
Kyllä
Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa
Ei
DOI
10.1557/PROC-831-E8.18
Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen
Kyllä