The fabrication of silicon nanostructures by local gallium implantation and cryogenic deep reactive ion etching Ion Etching

Julkaisuvuosi

2009

Tekijät

Chekurov, Nikolai; Grigoras, Kestutis; Peltonen, Antti; Franssila, Sami; Tittonen, Ilkka

Organisaatiot ja tekijät

Aalto-yliopisto

Tittonen Ilkka

Franssila Sami

Julkaisutyyppi

Julkaisumuoto

Artikkeli

Emojulkaisun tyyppi

Lehti

Artikkelin tyyppi

Alkuperäisartikkeli:

Yleisö

Tieteellinen

Vertaisarvioitu

OKM:n julkaisutyyppiluokitus

A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä

Julkaisukanavan tiedot

Lehti/Sarja

Nanotechnology

Kustantaja

Institute of Physics Publishing

Volyymi

Numero

Avoin saatavuus

Avoin saatavuus kustantajan palvelussa

Rinnakkaistallennettu

Muut tiedot

Tieteenalat

Fysiikka; Kemia; Sähkö-, automaatio- ja tietoliikennetekniikka, elektroniikka; Materiaalitekniikka; Nanoteknologia; Lääketieteen bioteknologia

Avainsanat

[object Object],[object Object],[object Object]

Kustantajan kansainvälisyys

Kansainvälinen

Kieli

englanti

Kansainvälinen yhteisjulkaisu

Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa

Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen

Kyllä