Fluence, flux and implantation temperature dependence of ion implantation induced defect production in 4H-SiC
Julkaisuvuosi
2005
Tekijät
Slotte, Jonatan; Janson, M.S.; Saarinen, Kimmo; Kuznetsov, A.Yu.; Hallén, A.; Wong-Leung, J.; Jagadish, C.; Svensson, B.G.
Organisaatiot ja tekijät
Aalto-yliopisto
Slotte Jonatan 
Julkaisutyyppi
Julkaisumuoto
Artikkeli
Emojulkaisun tyyppi
Lehti
Artikkelin tyyppi
Alkuperäisartikkeli
Yleisö
TieteellinenVertaisarvioitu
VertaisarvioituOKM:n julkaisutyyppiluokitus
A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessäJulkaisukanavan tiedot
Kustantaja
Volyymi
97
Numero
3
Sivut
033513-033513-7
ISSN
Julkaisufoorumi
Julkaisufoorumitaso
2
Avoin saatavuus
Avoin saatavuus kustantajan palvelussa
Ei
Rinnakkaistallennettu
Ei
Muut tiedot
Avainsanat
[object Object],[object Object],[object Object]
Kustantajan kansainvälisyys
Kansainvälinen
Kieli
englanti
Kansainvälinen yhteisjulkaisu
Ei
Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa
Ei
Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen
Kyllä