Etching through silicon wafer in inductively coupled plasma

Julkaisuvuosi

2000

Tekijät

Franssila, S.; Kiihamäki, J.; Karttunen, J.

Organisaatiot ja tekijät

Aalto-yliopisto

Franssila Sami

Julkaisutyyppi

Julkaisumuoto

Artikkeli

Emojulkaisun tyyppi

Lehti

Artikkelin tyyppi

Alkuperäisartikkeli

Yleisö

Tieteellinen

Vertaisarvioitu

OKM:n julkaisutyyppiluokitus

A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä

Julkaisukanavan tiedot

Lehti/Sarja

MICROSYSTEM TECHNOLOGIES: MICRO-AND NANOSYSTEMS-INFORMATION STORAGE AND PROCESSING SYSTEMS

Kustantaja

SPRINGER

Volyymi

Sivut

141-144

Avoin saatavuus

Avoin saatavuus kustantajan palvelussa

Rinnakkaistallennettu

Muut tiedot

Avainsanat

[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]

Kustantajan kansainvälisyys

Kansainvälinen

Kieli

englanti

Kansainvälinen yhteisjulkaisu

Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa

Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen

Kyllä