Synchrotron topography and X-ray diffraction study of GaInP layers grown on GaAs/Ge

Synchrotron topography and X-ray diffraction study of GaInP layers grown on GaAs/Ge

Julkaisuvuosi

2009

Tekijät

Lankinen, A.; Knuuttila, L.; Kostamo, P.; Tuomi, T.O.; Lipsanen, H.; McNally, P.J.; "O'Reilly", L.

Organisaatiot ja tekijät

Aalto-yliopisto

Lipsanen Harri Orcid -palvelun logo

Kostamo Pasi

Julkaisutyyppi

Julkaisumuoto

Artikkeli

Emojulkaisun tyyppi

Lehti

Artikkelin tyyppi

Alkuperäisartikkeli

Yleisö

Tieteellinen

Vertaisarvioitu

Vertaisarvioitu

OKM:n julkaisutyyppiluokitus

A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä

Julkaisukanavan tiedot

Lehti

Journal of Crystal Growth

Kustantaja

Elsevier

Volyymi

311

Numero

22

Sivut

4619-4627

Avoin saatavuus

Avoin saatavuus kustantajan palvelussa

Ei

Rinnakkaistallennettu

Ei

Muut tiedot

Tieteenalat

Fysiikka; Kemia; Sähkö-, automaatio- ja tietoliikennetekniikka, elektroniikka; Materiaalitekniikka; Nanoteknologia; Lääketieteen bioteknologia

Kustantajan kansainvälisyys

Kansainvälinen

Kieli

englanti

Kansainvälinen yhteisjulkaisu

Kyllä

Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa

Kyllä

DOI

10.1016/j.jcrysgro.2009.08.032

Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen

Kyllä