He implantation to control B diffusion in crystalline and preamorphized Si
Julkaisuvuosi
2008
Tekijät
Bruno, Elena; Mirabella, Salvo; Priolo, Francesco; Kuitunen, Katja; Tuomisto, Filip; Slotte, Jonatan; Giannazzo, Filippo; Bongiorno, Corrado; Raineri, Vito; Napolitani, Enrico
Organisaatiot ja tekijät
Julkaisutyyppi
Julkaisumuoto
Artikkeli
Emojulkaisun tyyppi
Lehti
Artikkelin tyyppi
Alkuperäisartikkeli
Yleisö
TieteellinenVertaisarvioitu
VertaisarvioituOKM:n julkaisutyyppiluokitus
A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessäJulkaisukanavan tiedot
Lehti
Journal of Vacuum Science and Technology. Part B.
Kustantaja
AVS Science and Technology Society
Volyymi
26
Numero
1
Sivut
386-390
ISSN
Avoin saatavuus
Avoin saatavuus kustantajan palvelussa
Kyllä
Julkaisukanavan avoin saatavuus
Kokonaan avoin julkaisukanava
Rinnakkaistallennettu
Kyllä
Muut tiedot
Tieteenalat
Fysiikka; Kone- ja valmistustekniikka; Ympäristötekniikka; Nanoteknologia
Avainsanat
[object Object],[object Object],[object Object]
Kustantajan kansainvälisyys
Kansainvälinen
Kieli
englanti
Kansainvälinen yhteisjulkaisu
Kyllä
Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa
Ei
DOI
10.1116/1.2816927
Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen
Kyllä