Diffusion of cobalt in ion-implanted ZnO
Julkaisuvuosi
2010
Tekijät
Koskelo, Otso; Räisänen, Jyrki; Eversheim, D.; Tuomisto, Filip; Grasza, K.; Mycielski, A.
Organisaatiot ja tekijät
Aalto-yliopisto
Tuomisto Filip 
Julkaisutyyppi
Julkaisumuoto
Artikkeli
Emojulkaisun tyyppi
Lehti
Artikkelin tyyppi
Alkuperäisartikkeli
Yleisö
TieteellinenVertaisarvioitu
VertaisarvioituOKM:n julkaisutyyppiluokitus
A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessäJulkaisukanavan tiedot
Lehti
Thin Solid Films
Kustantaja
Elsevier
Volyymi
518
Numero
14
Sivut
3894-3897
Avoin saatavuus
Avoin saatavuus kustantajan palvelussa
Ei
Rinnakkaistallennettu
Ei
Muut tiedot
Tieteenalat
Fysiikka; Kone- ja valmistustekniikka; Ympäristötekniikka; Nanoteknologia
Avainsanat
[object Object],[object Object],[object Object]
Kustantajan kansainvälisyys
Kansainvälinen
Kieli
englanti
Kansainvälinen yhteisjulkaisu
Kyllä
Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa
Ei
DOI
10.1016/j.tsf.2009.11.081
Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen
Kyllä