undefined

< Takaisin hakutuloksiin

Molecular dynamics simulation of helium ion implantation into silicon and its migration

Julkaisuvuosi

2019

Tekijät

Liu, Lei; Xu, Zongwei; Li, Rongrong; Zhu, Rui; Xu, Jun; Zhao, Junlei; Wang, Chao; Nordlund, Kai; Fu, Xiu; Fang, Fengzhou

Organisaatiot ja tekijät

Helsingin yliopisto

Zhao Junlei

Nordlund Kai

Julkaisutyyppi

Julkaisumuoto

Artikkeli

Emojulkaisun tyyppi

Lehti

Artikkelin tyyppi

Alkuperäisartikkeli

Yleisö

Tieteellinen

Vertaisarvioitu

Vertaisarvioitu

OKM:n julkaisutyyppiluokitus

A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä

Julkaisukanavan tiedot

Lehti

Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms

Emojulkaisun nimi

Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms

Volyymi

456

Sivut

53-59

ISSN

0168-583X

Julkaisu­foorumi

64245

Julkaisufoorumitaso

1

Avoin saatavuus

Avoin saatavuus kustantajan palvelussa

Ei

Rinnakkaistallennettu

Kyllä

Rinnakkaistallenteen lisenssi

CC BY NC ND

Muut tiedot

Tieteenalat

Fysiikka

Avainsanat

[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]

Julkaisumaa

Alankomaat

Kustantajan kansainvälisyys

Kansainvälinen

Kieli

englanti

Kansainvälinen yhteisjulkaisu

Kyllä

Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa

Ei

DOI

10.1016/j.nimb.2019.06.034

Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen

Kyllä