Boron Implanted Junction with In Situ Oxide Passivation and Application to p-PERT Bifacial Silicon Solar Cell
Julkaisuvuosi
2019
Tekijät
Huang, Haibing; Wang, Lichun; Mandrell, Lisa; Modanese, Chiara; Sun, Shenghua; Wang, Jianbo; Wang, Aihua; Zhao, Jianhua; Adibi, Babak; Savin, Hele
Organisaatiot ja tekijät
Julkaisutyyppi
Julkaisumuoto
Artikkeli
Emojulkaisun tyyppi
Lehti
Artikkelin tyyppi
Alkuperäisartikkeli
Yleisö
TieteellinenVertaisarvioitu
VertaisarvioituOKM:n julkaisutyyppiluokitus
A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessäJulkaisukanavan tiedot
Kustantaja
Volyymi
216
Numero
6
Artikkelinumero
1800414
ISSN
Julkaisufoorumi
Julkaisufoorumitaso
1
Avoin saatavuus
Avoin saatavuus kustantajan palvelussa
Ei
Rinnakkaistallennettu
Ei
Muut tiedot
Tieteenalat
Fysiikka; Materiaalitekniikka
Avainsanat
[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]
Kustantajan kansainvälisyys
Kansainvälinen
Kieli
englanti
Kansainvälinen yhteisjulkaisu
Kyllä
Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa
Kyllä
DOI
10.1002/pssa.201800414
Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen
Kyllä