undefined

< Takaisin hakutuloksiin

Electric and Magnetic Properties of Atomic Layer Deposited ZrO2-HfO2 Thin Films

Julkaisuvuosi

2018

Tekijät

Kalam, Kristjan; Seemen, Helina; Mikkor, Mats; Ritslaid, Peeter; Stern, Raivo; Duenas, Salvador; Castan, Helena; Tamm, Aile; Kukli, Kaupo

Organisaatiot ja tekijät

Helsingin yliopisto

Kukli Kaupo

Julkaisutyyppi

Julkaisumuoto

Artikkeli

Emojulkaisun tyyppi

Lehti

Artikkelin tyyppi

Alkuperäisartikkeli

Yleisö

Tieteellinen

Vertaisarvioitu

Vertaisarvioitu

OKM:n julkaisutyyppiluokitus

A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä

Julkaisukanavan tiedot

Lehti

ECS Journal of Solid State Science and Technology

Emojulkaisun nimi

ECS Journal of Solid State Science and Technology

Volyymi

7

Numero

9

Sivut

N117-N122

ISSN

2162-8769

Julkaisu­foorumi

75100

Julkaisufoorumitaso

0

Avoin saatavuus

Avoin saatavuus kustantajan palvelussa

Kyllä

Julkaisukanavan avoin saatavuus

Osittain avoin julkaisukanava

Kustantajan version lisenssi

CC BY

Rinnakkaistallennettu

Kyllä

Rinnakkaistallenteen lisenssi

CC BY

Muut tiedot

Tieteenalat

Kemia; Nanoteknologia

Avainsanat

[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]

Julkaisumaa

Yhdysvallat (USA)

Kustantajan kansainvälisyys

Kansainvälinen

Kieli

englanti

Kansainvälinen yhteisjulkaisu

Kyllä

Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa

Ei

DOI

10.1149/2.0041809jss

Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen

Kyllä