Atomic Layer Deposition and Performance of ZrO2-Al2O3 Thin Films
Julkaisuvuosi
2018
Tekijät
Kukli, Kaupo; Kemell, Marianna; Castan, Helena; Duenas, Salvador; Seemen, Helina; Rähn, Mihkel; Link, Joosep; Stern, Raivo; Heikkilä, Mikko J.; Ritala, Mikko; Leskelä, Markku
Organisaatiot ja tekijät
Julkaisutyyppi
Julkaisumuoto
Artikkeli
Emojulkaisun tyyppi
Lehti
Artikkelin tyyppi
Alkuperäisartikkeli
Yleisö
TieteellinenVertaisarvioitu
VertaisarvioituOKM:n julkaisutyyppiluokitus
A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessäJulkaisukanavan tiedot
Emojulkaisun nimi
Volyymi
7
Numero
5
Sivut
P287-P294
ISSN
Julkaisufoorumi
Julkaisufoorumitaso
0
Avoin saatavuus
Avoin saatavuus kustantajan palvelussa
Ei
Julkaisukanavan avoin saatavuus
Osittain avoin julkaisukanava
Rinnakkaistallennettu
Kyllä
Muut tiedot
Tieteenalat
Kemia; Nanoteknologia
Avainsanat
[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]
Julkaisumaa
Yhdysvallat (USA)
Kustantajan kansainvälisyys
Kansainvälinen
Kieli
englanti
Kansainvälinen yhteisjulkaisu
Kyllä
Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa
Ei
DOI
10.1149/2.0021806jss
Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen
Kyllä