Atomic layer deposition of lanthanum oxide with heteroleptic cyclopentadienyl-amidinate lanthanum precursor - Effect of the oxygen source on the film growth and properties
Julkaisuvuosi
2018
Tekijät
Seppälä, Sanni; Niinistö, Jaakko; Mattinen, Miika; Mizohata, Kenichiro; Räisänen, Jyrki; Noh, Wontae; Ritala, Mikko; Leskelä, Markku
Organisaatiot ja tekijät
Helsingin yliopisto
Niinistö Jaakko
Räisänen Jyrki
Mizohata Kenichiro
Leskelä Markku
Mattinen Miika
Ritala Mikko
Seppälä Sanni
Julkaisutyyppi
Julkaisumuoto
Artikkeli
Emojulkaisun tyyppi
Lehti
Artikkelin tyyppi
Alkuperäisartikkeli
Yleisö
TieteellinenVertaisarvioitu
VertaisarvioituOKM:n julkaisutyyppiluokitus
A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessäJulkaisukanavan tiedot
Lehti
Emojulkaisun nimi
Volyymi
660
Sivut
199-206
ISSN
Julkaisufoorumi
Julkaisufoorumitaso
1
Avoin saatavuus
Avoin saatavuus kustantajan palvelussa
Kyllä
Julkaisukanavan avoin saatavuus
Osittain avoin julkaisukanava
Kustantajan version lisenssi
CC BY
Rinnakkaistallennettu
Kyllä
Rinnakkaistallenteen lisenssi
CC BY
Muut tiedot
Tieteenalat
Fysiikka; Kemia
Julkaisumaa
Alankomaat
Kustantajan kansainvälisyys
Kansainvälinen
Kieli
englanti
Kansainvälinen yhteisjulkaisu
Kyllä
Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa
Ei
DOI
10.1016/j.tsf.2018.06.011
Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen
Kyllä