Atomic layer deposition of lanthanum oxide with heteroleptic cyclopentadienyl-amidinate lanthanum precursor - Effect of the oxygen source on the film growth and properties
Julkaisuvuosi
2018
Tekijät
Seppälä, Sanni; Niinistö, Jaakko; Mattinen, Miika; Mizohata, Kenichiro; Räisänen, Jyrki; Noh, Wontae; Ritala, Mikko; Leskelä, Markku
Organisaatiot ja tekijät
Helsingin yliopisto
Niinistö Jaakko
Räisänen Jyrki
Mizohata Kenichiro
Leskelä Markku
Mattinen Miika
Ritala Mikko
Seppälä Sanni
Julkaisutyyppi
Julkaisumuoto
Artikkeli
Emojulkaisun tyyppi
Lehti
Artikkelin tyyppi
Alkuperäisartikkeli:
Yleisö
TieteellinenVertaisarvioitu
VertaisarvioituOKM:n julkaisutyyppiluokitus
A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessäJulkaisukanavan tiedot
Lehti/Sarja
Emojulkaisun nimi
Volyymi
660
Sivut
199-206
ISSN
Julkaisufoorumi
Julkaisufoorumitaso
1
Avoin saatavuus
Avoin saatavuus kustantajan palvelussa
Kyllä
Julkaisukanavan avoin saatavuus
Osittain avoin julkaisukanava
Kustantajan version lisenssi
CC BY
Rinnakkaistallennettu
Kyllä
Rinnakkaistallenteen lisenssi
CC BY
Muut tiedot
Tieteenalat
Fysiikka; Kemia
Avainsanat
[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]
Julkaisumaa
Alankomaat
Kustantajan kansainvälisyys
Kansainvälinen
Kieli
englanti
Kansainvälinen yhteisjulkaisu
Kyllä
Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa
Ei
DOI
10.1016/j.tsf.2018.06.011
Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen
Kyllä