Atomic layer deposition and properties of ZrO2/Fe2O3 thin films
Julkaisuvuosi
2018
Tekijät
Kalam, Kristjan; Seemen, Helina; Ritslaid, Peeter; Rähn, Mihkel; Tamm, Aile; Kukli, Kaupo; Kasikov, Aarne; Link, Joosep; Stern, Raivo; Duenas, Salvador; Castan, Helena; Garcia, Hector
Organisaatiot ja tekijät
Helsingin yliopisto
Kukli Kaupo
Julkaisutyyppi
Julkaisumuoto
Artikkeli
Emojulkaisun tyyppi
Lehti
Artikkelin tyyppi
Alkuperäisartikkeli
Yleisö
TieteellinenVertaisarvioitu
VertaisarvioituOKM:n julkaisutyyppiluokitus
A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessäJulkaisukanavan tiedot
Emojulkaisun nimi
Volyymi
9
Sivut
119-128
ISSN
Julkaisufoorumi
Julkaisufoorumitaso
1
Avoin saatavuus
Avoin saatavuus kustantajan palvelussa
Kyllä
Julkaisukanavan avoin saatavuus
Kokonaan avoin julkaisukanava
Rinnakkaistallennettu
Kyllä
Rinnakkaistallenteen lisenssi
CC BY
Muut tiedot
Tieteenalat
Kemia; Nanoteknologia
Avainsanat
[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]
Julkaisumaa
Saksa
Kustantajan kansainvälisyys
Kansainvälinen
Kieli
englanti
Kansainvälinen yhteisjulkaisu
Kyllä
Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa
Ei
DOI
10.3762/bjnano.9.14
Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen
Kyllä