Patterned films by atomic layer deposition using Parafilm as a mask
Julkaisuvuosi
2018
Tekijät
Zhang, Chao; Kalliomäki, Jesse; Leskelä, Markku; Ritala, Mikko
Organisaatiot ja tekijät
Julkaisutyyppi
Julkaisumuoto
Artikkeli
Emojulkaisun tyyppi
Lehti
Artikkelin tyyppi
Alkuperäisartikkeli
Yleisö
TieteellinenVertaisarvioitu
VertaisarvioituOKM:n julkaisutyyppiluokitus
A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessäJulkaisukanavan tiedot
Emojulkaisun nimi
Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films
Volyymi
36
Numero
1
Artikkelinumero
ARTN 01B102
ISSN
Julkaisufoorumi
Julkaisufoorumitaso
1
Avoin saatavuus
Avoin saatavuus kustantajan palvelussa
Ei
Rinnakkaistallennettu
Kyllä
Muut tiedot
Tieteenalat
Kemia; Nanoteknologia
Avainsanat
[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]
Julkaisumaa
Yhdysvallat (USA)
Kustantajan kansainvälisyys
Kansainvälinen
Kieli
englanti
Kansainvälinen yhteisjulkaisu
Ei
Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa
Ei
DOI
10.1116/1.5001033
Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen
Kyllä