Bismuth iron oxide thin films using atomic layer deposition of alternating bismuth oxide and iron oxide layers
Julkaisuvuosi
2016
Tekijät
Puttaswamy, Manjunath; Vehkamäki, Marko; Kukli, Kaupo; Dimri, Mukesh Chandra; Kemell, Marianna; Hatanpää, Timo; Heikkilä, Mikko J.; Mizohata, Kenichiro; Stern, Raivo; Ritala, Mikko; Leskelä, Markku
Organisaatiot ja tekijät
Helsingin yliopisto
Kukli Kaupo
Mizohata Kenichiro
Puttaswamy Manjunath
Kemell Marianna
Leskelä Markku
Vehkamäki Marko
Ritala Mikko
Heikkilä Mikko J.
Hatanpää Timo
Julkaisutyyppi
Julkaisumuoto
Artikkeli
Emojulkaisun tyyppi
Lehti
Artikkelin tyyppi
Alkuperäisartikkeli
Yleisö
TieteellinenVertaisarvioitu
VertaisarvioituOKM:n julkaisutyyppiluokitus
A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessäJulkaisukanavan tiedot
Lehti
Emojulkaisun nimi
Volyymi
611
Sivut
78-87
ISSN
Julkaisufoorumi
Julkaisufoorumitaso
1
Avoin saatavuus
Avoin saatavuus kustantajan palvelussa
Ei
Rinnakkaistallennettu
Ei
Muut tiedot
Tieteenalat
Fysiikka; Kemia
Avainsanat
[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]
Julkaisumaa
Alankomaat
Kustantajan kansainvälisyys
Kansainvälinen
Kieli
englanti
Kansainvälinen yhteisjulkaisu
Kyllä
Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa
Ei
DOI
10.1016/j.tsf.2016.05.006
Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen
Kyllä