undefined

< Takaisin hakutuloksiin

Joint Research on Scatterometry and AFM Wafer Metrology

Julkaisuvuosi

2011

Tekijät

Bodermann Bernd, Buhr Egbert, Danzebrink Hans-Ulrich, Bär Markus, Scholze Frank, Krumrey Michael, Wurm Matthias, Klapetek Petr, Hansen Poul-Erik, Korpelainen Virpi, Veghel Marijn van, Yacoot Andrew, Siitonen Samuli, Gawhary Omar el, Burger Sven, Saastamoinen Toni
Näytä enemmän

Organisaatiot ja tekijät

Itä-Suomen yliopisto

Saastamoinen Toni

Julkaisutyyppi

Julkaisumuoto

Artikkeli

Emojulkaisun tyyppi

Konferenssi

Artikkelin tyyppi

Muu artikkeli

Yleisö

Tieteellinen

Vertaisarvioitu

Ei-vertaisarvioitu

OKM:n julkaisutyyppiluokitus

B3 Vertaisarvioimaton artikkeli konferenssijulkaisussa

Julkaisukanavan tiedot

Emojulkaisun nimi

FRONTIERS OF CHARACTERIZATION AND METROLOGY FOR NANOELECTRONICS: 2011

Emojulkaisun toimittajat

David G. Seiler, Alain C. Diebold, Robert McDonald, Amal Chabli, Erik M. Secula

Kustantaja

American Institute of Physics

Volyymi

1395

Sivut

319-323

ISBN

978-0-7354-0965-1

Avoin saatavuus

Avoin saatavuus kustantajan palvelussa

Kyllä

Julkaisukanavan avoin saatavuus

Kokonaan avoin julkaisukanava

Rinnakkaistallennettu

Ei tietoa

Muut tiedot

Tieteenalat

Fysiikka

Julkaisumaa

Ranska

Kustantajan kansainvälisyys

Kansainvälinen

Kieli

englanti

Kansainvälinen yhteisjulkaisu

Kyllä

Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa

Ei tietoa

DOI

10.1063/1.3657910

Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen

Kyllä