Effects of post oxidation of SiO2/Si interfaces in ultrahigh vacuum below 450 °C
Julkaisuvuosi
2022
Tekijät
Rad, Zahra Jahanshah; Lehtiö, Juha Pekka; Chen, Kexun; Mack, Iris; Vähänissi, Ville; Miettinen, Mikko; Punkkinen, Marko; Punkkinen, Risto; Suomalainen, Petri; Hedman, Hannu Pekka; Kuzmin, Mikhail; Kozlova, Jekaterina; Rähn, Mihkel; tart, university; Savin, Hele; Laukkanen, Pekka; Kokko, Kalevi
Näytä enemmänOrganisaatiot ja tekijät
Turun yliopisto
Kokko Kalevi
Punkkinen Marko
Kuzmin Mikhail
Laukkanen Pekka
Hedman Hannu-Pekka
Suomalainen Petri
Punkkinen Risto
Julkaisutyyppi
Julkaisumuoto
Artikkeli
Emojulkaisun tyyppi
Lehti
Artikkelin tyyppi
Alkuperäisartikkeli
Yleisö
TieteellinenVertaisarvioitu
VertaisarvioituOKM:n julkaisutyyppiluokitus
A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessäJulkaisukanavan tiedot
Avoin saatavuus
Avoin saatavuus kustantajan palvelussa
Kyllä
Julkaisukanavan avoin saatavuus
Osittain avoin julkaisukanava
Rinnakkaistallennettu
Kyllä
Muut tiedot
Tieteenalat
Fysiikka; Materiaalitekniikka
Avainsanat
[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]
Kustantajan kansainvälisyys
Kansainvälinen
Kieli
englanti
Kansainvälinen yhteisjulkaisu
Kyllä
Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa
Ei
DOI
10.1016/j.vacuum.2022.111134
Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen
Kyllä