undefined

Ambient pressure x-ray photoelectron spectroscopy setup for synchrotron-based in situ and operando atomic layer deposition research

Julkaisuvuosi

2022

Tekijät

Kokkonen, E.; Kaipio, Mikko; Nieminen, H. E.; Rehman, F.; Miikkulainen, V.; Putkonen, M.; Ritala, Mikko; Huotari, S.; Schnadt, J.; Urpelainen, S.

Organisaatiot ja tekijät

Helsingin yliopisto

Nieminen H. -E

Kaipio M.

Putkonen M.

Ritala M.

Huotari S.

Miikkulainen V.

Aalto-yliopisto

Miikkulainen Ville Orcid -palvelun logo

Oulun yliopisto

Urpelainen Samuli Orcid -palvelun logo

Julkaisutyyppi

Julkaisumuoto

Artikkeli

Emojulkaisun tyyppi

Lehti

Artikkelin tyyppi

Alkuperäisartikkeli:

Yleisö

Tieteellinen

Vertaisarvioitu

Vertaisarvioitu

OKM:n julkaisutyyppiluokitus

A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä

Julkaisukanavan tiedot

Volyymi

93

Numero

1

Artikkelinumero

013905

Julkaisu­foorumi

66242

Julkaisufoorumitaso

1

Avoin saatavuus

Avoin saatavuus kustantajan palvelussa

Kyllä

Julkaisukanavan avoin saatavuus

Osittain avoin julkaisukanava

Kustantajan version lisenssi

CC BY

Rinnakkaistallennettu

Kyllä

Rinnakkaistallenteen lisenssi

CC BY

Muut tiedot

Tieteenalat

Fysiikka; Kemia; Teknillinen kemia, kemian prosessitekniikka; Materiaalitekniikka; Nanoteknologia

Avainsanat

[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]

Julkaisumaa

Yhdysvallat (USA)

Kustantajan kansainvälisyys

Kansainvälinen

Kieli

englanti

Kansainvälinen yhteisjulkaisu

Kyllä

Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa

Ei

DOI

10.1063/5.0076993

Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen

Kyllä