Nucleation and Conformality of Iridium and Iridium Oxide Thin Films Grown by Atomic Layer Deposition
Julkaisuvuosi
2016
Tekijät
Mattinen, Miika; Hämäläinen, Jani; Gao, Feng; Jalkanen, Pasi; Mizohata, Kenichiro; Räisänen, Jyrki; Puurunen, Riikka L.; Ritala, Mikko; Leskelä, Markku
Organisaatiot ja tekijät
Helsingin yliopisto
Hämäläinen Jani
Räisänen Jyrki
Mizohata Kenichiro
Leskelä Markku
Mattinen Miika
Ritala Mikko
Jalkanen Pasi
Julkaisutyyppi
Julkaisumuoto
Artikkeli
Emojulkaisun tyyppi
Lehti
Artikkelin tyyppi
Alkuperäisartikkeli
Yleisö
TieteellinenVertaisarvioitu
VertaisarvioituOKM:n julkaisutyyppiluokitus
A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessäJulkaisukanavan tiedot
Avoin saatavuus
Avoin saatavuus kustantajan palvelussa
Ei
Rinnakkaistallennettu
Ei
Muut tiedot
Tieteenalat
Fysiikka; Kemia; Materiaalitekniikka
Avainsanat
[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]
Julkaisumaa
Yhdysvallat (USA)
Kustantajan kansainvälisyys
Kansainvälinen
Kieli
englanti
Kansainvälinen yhteisjulkaisu
Ei
Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa
Ei
DOI
10.1021/acs.langmuir.6b03007
Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen
Kyllä