Highly Material Selective and Self-Aligned Photo-assisted Atomic Layer Deposition of Copper on Oxide Materials
Julkaisuvuosi
2021
Tekijät
Miikkulainen, Ville; Vehkamäki, Marko; Mizohata, Kenichiro; Hatanpää, Timo; Ritala, Mikko
Organisaatiot ja tekijät
Aalto-yliopisto
Miikkulainen Ville 
Helsingin yliopisto
Mizohata Kenichiro
Vehkamäki Marko
Ritala Mikko
Hatanpää Timo
Miikkulainen Ville
Julkaisutyyppi
Julkaisumuoto
Artikkeli
Emojulkaisun tyyppi
Lehti
Artikkelin tyyppi
Alkuperäisartikkeli
Yleisö
TieteellinenVertaisarvioitu
VertaisarvioituOKM:n julkaisutyyppiluokitus
A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessäJulkaisukanavan tiedot
Emojulkaisun nimi
Kustantaja
Volyymi
8
Numero
11
Artikkelinumero
2100014
ISSN
Julkaisufoorumi
Julkaisufoorumitaso
1
Avoin saatavuus
Avoin saatavuus kustantajan palvelussa
Kyllä
Julkaisukanavan avoin saatavuus
Osittain avoin julkaisukanava
Rinnakkaistallennettu
Kyllä
Muut tiedot
Tieteenalat
Fysiikka; Kemia; Materiaalitekniikka
Avainsanat
[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]
Kustantajan kansainvälisyys
Kansainvälinen
Kieli
englanti
Kansainvälinen yhteisjulkaisu
Ei
Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa
Ei
DOI
10.1002/admi.202100014
Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen
Kyllä