ToF-SIMS 3d analysis of thin films deposited in high aspect ratio structures via atomic layer deposition and chemical vapor deposition
Julkaisuvuosi
2019
Tekijät
Kia, Alireza M.; Haufe, Nora; Esmaeili, Sajjad; Mart, Clemens; Utriainen, Mikko; Puurunen, Riikka L.; Weinreich, Wenke
Organisaatiot ja tekijät
Aalto-yliopisto
Puurunen Riikka 
Julkaisutyyppi
Julkaisumuoto
Artikkeli
Emojulkaisun tyyppi
Lehti
Artikkelin tyyppi
Alkuperäisartikkeli
Yleisö
TieteellinenVertaisarvioitu
VertaisarvioituOKM:n julkaisutyyppiluokitus
A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessäJulkaisukanavan tiedot
Lehti
Kustantaja
Volyymi
9
Numero
7
Artikkelinumero
1035
ISSN
Julkaisufoorumi
Julkaisufoorumitaso
1
Avoin saatavuus
Avoin saatavuus kustantajan palvelussa
Kyllä
Julkaisukanavan avoin saatavuus
Kokonaan avoin julkaisukanava
Rinnakkaistallennettu
Kyllä
Muut tiedot
Tieteenalat
Teknillinen kemia, kemian prosessitekniikka; Materiaalitekniikka; Nanoteknologia
Avainsanat
[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]
Kustantajan kansainvälisyys
Kansainvälinen
Kieli
englanti
Kansainvälinen yhteisjulkaisu
Kyllä
Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa
Ei
DOI
10.3390/nano9071035
Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen
Kyllä