High-k GaAs metal insulator semiconductor capacitors passivated by ex-situ plasma-enhanced atomic layer deposited AlN for Fermi-level unpinning

High-<i>k</i> GaAs metal insulator semiconductor capacitors passivated by <i>ex-situ </i>plasma-enhanced atomic layer deposited AlN for Fermi-level unpinning

Julkaisuvuosi

2012

Tekijät

Jussila, Henri; Mattila, Päivi; Oksanen, Jani; Perros, Alexander; Riikonen, Juha; Bosund, Markus; Varpula, Aapo; Huhtio, Teppo; Lipsanen, Harri; Sopanen, Markku

Organisaatiot ja tekijät

Aalto-yliopisto

Perros Alexander Orcid -palvelun logo

Lipsanen Harri Orcid -palvelun logo

Jussila Henri

Oksanen Jani

Riikonen Juha

Sopanen Markku Orcid -palvelun logo

Mattila Päivi

Huhtio Teppo

Julkaisutyyppi

Julkaisumuoto

Artikkeli

Emojulkaisun tyyppi

Lehti

Artikkelin tyyppi

Alkuperäisartikkeli

Yleisö

Tieteellinen

Vertaisarvioitu

Vertaisarvioitu

OKM:n julkaisutyyppiluokitus

A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä

Julkaisukanavan tiedot

Volyymi

100

Numero

7

Artikkelinumero

071606

Julkaisu­foorumi

51518

Julkaisufoorumitaso

2

Avoin saatavuus

Avoin saatavuus kustantajan palvelussa

Kyllä

Julkaisukanavan avoin saatavuus

Kokonaan avoin julkaisukanava

Rinnakkaistallennettu

Kyllä

Muut tiedot

Tieteenalat

Fysiikka; Kemia; Sähkö-, automaatio- ja tietoliikennetekniikka, elektroniikka; Materiaalitekniikka; Nanoteknologia; Lääketieteen bioteknologia

Kustantajan kansainvälisyys

Kansainvälinen

Kieli

englanti

Kansainvälinen yhteisjulkaisu

Ei

Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa

Kyllä

DOI

10.1063/1.3687199

Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen

Kyllä