undefined

WS<sub>2</sub> and MoS<sub>2</sub> thin film gas sensors with high response to NH<sub>3</sub> in air at low temperature

Julkaisuvuosi

2019

Tekijät

Järvinen, Topias; Lorite, Gabriela S.; Peräntie, Jani; Toth, Geza; Saarakkala, Simo; Virtanen, Vesa K.; Kordas, Krisztian

Abstrakti:

<p>Transition metal dichalcogenides (TMDs) have received immense research interest in particular for their outstanding electrochemical and optoelectrical properties. Lately, chemical gas sensor applications of TMDs have been recognized as well owing to the low operating temperatures of devices, which is a great advantage over conventional metal oxide based sensors. In this work, we elaborate on the gas sensing properties of WS<sub>2</sub> and MoS<sub>2</sub> thin films made by simple and straightforward thermal sulfurization of sputter deposited metal films on silicon chips. The sensor response to H<sub>2</sub>, H<sub>2</sub>S, CO and NH<sub>3</sub> analytes in air at 30 °C has been assessed and both MoS<sub>2</sub> and WS<sub>2</sub> were found to have an excellent selectivity to NH<sub>3</sub> with a particularly high sensitivity of 0.10 0.02 ppm<sup>-1</sup> at sub-ppm concentrations in the case of WS<sub>2</sub>. The sensing behavior is explained on the bases of gas adsorption energies as well as carrier (hole) localization induced by the surface adsorbed moieties having reductive nature.</p>
Näytä enemmän

Organisaatiot ja tekijät

Oulun yliopisto

Lorite Yrjänä Gabriela Orcid -palvelun logo

Peräntie Jani Orcid -palvelun logo

Järvinen Topias

Saarakkala Simo Orcid -palvelun logo

Julkaisutyyppi

Julkaisumuoto

Artikkeli

Emojulkaisun tyyppi

Lehti

Artikkelin tyyppi

Alkuperäisartikkeli:

Yleisö

Tieteellinen

Vertaisarvioitu

Vertaisarvioitu

OKM:n julkaisutyyppiluokitus

A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä

Julkaisukanavan tiedot

Lehti/Sarja

Nanotechnology

Numero

40

Artikkelinumero

405501

Julkaisu­foorumi

63717

Julkaisufoorumitaso

2

Avoin saatavuus

Avoin saatavuus kustantajan palvelussa

Kyllä

Julkaisukanavan avoin saatavuus

Osittain avoin julkaisukanava

Rinnakkaistallennettu

Kyllä

Muut tiedot

Tieteenalat

Fysiikka; Kemia; Arkkitehtuuri; Sähkö-, automaatio- ja tietoliikennetekniikka, elektroniikka; Kone- ja valmistustekniikka; Materiaalitekniikka

Avainsanat

[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]

Julkaisumaa

Yhdistynyt kuningaskunta

Kustantajan kansainvälisyys

Kansainvälinen

Kieli

englanti

Kansainvälinen yhteisjulkaisu

Ei

Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa

Ei

DOI

10.1088/1361-6528/ab2d48

Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen

Kyllä