Atomic Layer Deposition of LiF Thin Films from Lithd and TiF4 Precursors
Julkaisuvuosi
2013
Tekijät
Mäntymäki, Miia; Hämäläinen, Jani; Puukilainen, Esa; Munnik, Frans; Ritala, Mikko; Leskelä, Markku
Organisaatiot ja tekijät
Julkaisutyyppi
Julkaisumuoto
Artikkeli
Emojulkaisun tyyppi
Lehti
Artikkelin tyyppi
Alkuperäisartikkeli
Yleisö
TieteellinenVertaisarvioitu
VertaisarvioituOKM:n julkaisutyyppiluokitus
A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessäJulkaisukanavan tiedot
Emojulkaisun nimi
Volyymi
19
Numero
41794
Sivut
111-116
ISSN
Julkaisufoorumi
Julkaisufoorumitaso
2
Avoin saatavuus
Avoin saatavuus kustantajan palvelussa
Ei tietoa
Rinnakkaistallennettu
Ei tietoa
Muut tiedot
Tieteenalat
Kemia
Julkaisumaa
Saksa
Kustantajan kansainvälisyys
Kansainvälinen
Kieli
englanti
Kansainvälinen yhteisjulkaisu
Kyllä
Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa
Ei tietoa
DOI
10.1002/cvde.201207026
Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen
Kyllä