Influence of process parameters on atomic layer deposition of ZrO2 thin films from CpZr(NMe2)(3) and H2O
Julkaisuvuosi
2014
Tekijät
Aarik, Lauri; Alles, Harry; Aidla, Aleks; Kahro, Tauno; Kukli, Kaupo; Niinisto, Jaakko; Mandar, Hugo; Tamm, Aile; Rammula, Raul; Sammelselg, Vaino; Aarik, Jaan
Organisaatiot ja tekijät
Julkaisutyyppi
Julkaisumuoto
Artikkeli
Emojulkaisun tyyppi
Lehti
Artikkelin tyyppi
Alkuperäisartikkeli
Yleisö
TieteellinenVertaisarvioitu
VertaisarvioituOKM:n julkaisutyyppiluokitus
A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessäJulkaisukanavan tiedot
Lehti
Emojulkaisun nimi
Volyymi
565
Sivut
37-44
ISSN
Julkaisufoorumi
Julkaisufoorumitaso
2
Avoin saatavuus
Avoin saatavuus kustantajan palvelussa
Ei tietoa
Rinnakkaistallennettu
Ei tietoa
Muut tiedot
Tieteenalat
Kemia
Julkaisumaa
Sveitsi
Kustantajan kansainvälisyys
Kansainvälinen
Kieli
englanti
Kansainvälinen yhteisjulkaisu
Kyllä
Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa
Ei tietoa
DOI
10.1016/j.tsf.2014.06.052
Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen
Kyllä