Atomic Layer Deposition of Groups 4 and 5 Transition Metal Oxide Thin Films:Focus on Heteroleptic Precursors
Julkaisuvuosi
2014
Tekijät
Blanquart, Timothee; Niinistö, Jaakko; Ritala, Mikko; Leskelä, Markku
Organisaatiot ja tekijät
Julkaisutyyppi
Julkaisumuoto
Artikkeli
Emojulkaisun tyyppi
Lehti
Artikkelin tyyppi
Alkuperäisartikkeli
Yleisö
TieteellinenVertaisarvioitu
VertaisarvioituOKM:n julkaisutyyppiluokitus
A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessäJulkaisukanavan tiedot
Emojulkaisun nimi
Volyymi
20
Numero
7-9
Sivut
189-208
ISSN
Julkaisufoorumi
Julkaisufoorumitaso
2
Avoin saatavuus
Avoin saatavuus kustantajan palvelussa
Ei tietoa
Rinnakkaistallennettu
Ei tietoa
Muut tiedot
Tieteenalat
Kemia
Julkaisumaa
Saksa
Kustantajan kansainvälisyys
Kansainvälinen
Kieli
englanti
Kansainvälinen yhteisjulkaisu
Ei
Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa
Ei tietoa
DOI
10.1002/cvde.201400055
Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen
Kyllä