Conduction and stability of holmium titanium oxide thin films grown by atomic layer deposition
Julkaisuvuosi
2015
Tekijät
Castan, H.; Garcia, H.; Duenas, S.; Bailon, L.; Miranda, E.; Kukli, K.; Kemell, M.; Ritala, M.; Leskela, M.
Organisaatiot ja tekijät
Julkaisutyyppi
Julkaisumuoto
Artikkeli
Emojulkaisun tyyppi
Lehti
Artikkelin tyyppi
Alkuperäisartikkeli
Yleisö
TieteellinenVertaisarvioitu
VertaisarvioituOKM:n julkaisutyyppiluokitus
A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessäJulkaisukanavan tiedot
Lehti
Emojulkaisun nimi
Volyymi
591
Sivut
55-59
ISSN
Julkaisufoorumi
Julkaisufoorumitaso
1
Avoin saatavuus
Avoin saatavuus kustantajan palvelussa
Ei tietoa
Rinnakkaistallennettu
Ei tietoa
Muut tiedot
Tieteenalat
Fysiikka; Kemia
Julkaisumaa
Sveitsi
Kustantajan kansainvälisyys
Kansainvälinen
Kieli
englanti
Kansainvälinen yhteisjulkaisu
Kyllä
Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa
Ei tietoa
DOI
10.1016/j.tsf.2015.08.027
Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen
Kyllä