Hankkeessa kehitetään uutta teknologiaa äärimmäisen tarkkaan materiaalien muokkaukseen lasersäteilyn avulla. Nanoteknologian alalla lasermuokkausta käytetään mm. kaksidimensionaalisten, yhden atomin paksuisten, materiaalien muokkaukseen. Laserkirjoituksen avulla voidaan tuottaa elektronisia piirejä ja laitteita mikrometrimittakaavassa. Sovellusten kannalta mittakaava on kuitenkin liian suuri verrattuna nykyelektroniikan komponentteihin, jotka pystytään valmistamaan 10 nm tarkkuudella. Tässä hankkeessa on tavoitteena kuroa umpeen tämä ero soveltamalla optisia lähikenttätekniikoita, joiden avulla tullaan saavuttamaan 10 nm tarkkuus laserkirjoituksessa. Tämä tulee mullistamaan laserkirjoituksen potentiaalin uusissa sovellutuksissa. Menetelmän toimivuus sovelluksissa tullaan osoittamaan demonstroimalla alueselektiivinen atomikerroskasvatus 10 nm tarkkuudella, mikä tulee olemaan merkittävä tekniikka elektroniikan kehityksessä.

2023

2027