Projektissa kehitetään uusia itseohjautuvia menetelmiä ohutkalvorakenteiden valmistukseen. Menetelmät ovat pintakemian kontrolloimia ja selektiivisiä alla olevien materiaalien suhteen. Ohutkalvo muodostuu itseohjautuvasti vain tiettyjen materiaalien päälle muiden materiaalien jäädessä pinnoittumatta. Itseohjautuvien menetelmien merkittävänä etuna on se, että niiden avulla voidaan vähentää fotolitografiatyövaiheiden määrää puolijohteiden valmistuksessa. Tämä vähentää myös niistä aiheutuvia kriittisiä kohdentamisvirheitä ohutkalvorakenteiden eri osien välillä. Työssä tullaan tutkimaan sekä paikkaselektiivistä atomikerroskasvatusta että paikkaselektiivistä polymeerien etsausta. Näistä jälkimmäinen on aivan uusi ja käänteeentekevä lähestymistapa itseohjautuvaan ohutkalvorakenteiden valmistukseen. Kumpaankin menetelmään kehitetään uusia prosesseja ja tutkitaan niiden selektiivisyyteen johtavia reaktiomekanismeja.

2021

2026