Atomic layer deposition
Julkaisuvuosi
2025
Tekijät
Kessels, Erwin; Devi, Anjana; Park, Jin-Seong; Ritala, Mikko; Yanguas-Gil, Angel; Wiemer, Claudia
Organisaatiot ja tekijät
Helsingin yliopisto
Ritala Mikko
Julkaisutyyppi
Julkaisumuoto
Artikkeli
Raportti
Ei
Emojulkaisun tyyppi
Lehti
Artikkelin tyyppi
Katsausartikkeli: Yleisö
TieteellinenVertaisarvioitu
VertaisarvioituOKM:n julkaisutyyppiluokitus
A2 Katsausartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessäJulkaisukanavan tiedot
Lehti/Sarja
Emojulkaisun nimi
Volyymi
5
Numero
1
Artikkelinumero
66
ISSN
Julkaisufoorumi
Julkaisufoorumitaso
1
Avoin saatavuus
Avoin saatavuus kustantajan palvelussa
Ei
Julkaisukanavan avoin saatavuus
Osittain avoin julkaisukanava
Rinnakkaistallennettu
Kyllä
Muut tiedot
Tieteenalat
Kemia
Tunnistettu aihe
[object Object]
Julkaisumaa
Yhdistynyt kuningaskunta
Kustantajan kansainvälisyys
Kansainvälinen
Kieli
englanti
Kansainvälinen yhteisjulkaisu
Kyllä
Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa
Ei
DOI
10.1038/s43586-025-00435-6
Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen
Kyllä