Atomic Layer Deposition
Julkaisuvuosi
2021
Tekijät
van Ommen, J. Ruud; Goulas, Aristeidis; Puurunen, Riikka L.
Organisaatiot ja tekijät
Aalto-yliopisto
Puurunen Riikka 
Julkaisutyyppi
Julkaisumuoto
Artikkeli
Emojulkaisun tyyppi
Kokoomateos
Artikkelin tyyppi
Muu artikkeli
Yleisö
TieteellinenVertaisarvioitu
Ei-vertaisarvioituOKM:n julkaisutyyppiluokitus
B2 Kirjan tai muun kokoomateoksen osaJulkaisukanavan tiedot
Emojulkaisun nimi
Kustantaja
JOHN WILEY & SONS
Sivut
1-42
ISBN
Avoin saatavuus
Avoin saatavuus kustantajan palvelussa
Ei
Rinnakkaistallennettu
Ei
Muut tiedot
Tieteenalat
Teknillinen kemia, kemian prosessitekniikka
Kustantajan kansainvälisyys
Kansainvälinen
Kieli
englanti
Kansainvälinen yhteisjulkaisu
Kyllä
Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa
Ei
DOI
10.1002/0471238961.koe00059
Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen
Kyllä