< Takaisin hakutuloksiin

Atomic Layer Deposition

Julkaisuvuosi

2021

Tekijät

van Ommen, J. Ruud; Goulas, Aristeidis; Puurunen, Riikka L.

Organisaatiot ja tekijät

Aalto-yliopisto

Puurunen Riikka

Julkaisutyyppi

Julkaisumuoto

Artikkeli

Emojulkaisun tyyppi

Kokoomateos

Artikkelin tyyppi

Muu artikkeli

Yleisö

Tieteellinen

Vertaisarvioitu

Ei-vertaisarvioitu

OKM:n julkaisutyyppiluokitus

B2 Kirjan tai muun kokoomateoksen osa

Julkaisukanavan tiedot

Emojulkaisun nimi

Kirk‐Othmer Encyclopedia of Chemical Technology

Kustantaja

JOHN WILEY & SONS

Sivut

1-42

ISBN

978-0-471-23896-6

Avoin saatavuus

Avoin saatavuus kustantajan palvelussa

Ei

Rinnakkaistallennettu

Ei

Muut tiedot

Tieteenalat

Teknillinen kemia, kemian prosessitekniikka

Avainsanat

[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]

Kustantajan kansainvälisyys

Kansainvälinen

Kieli

englanti

Kansainvälinen yhteisjulkaisu

Kyllä

Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa

Ei

DOI

10.1002/0471238961.koe00059

Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen

Kyllä