Influence of atomic layer deposition chemistry on high-k dielectrics for charge trapping memories
Julkaisuvuosi
2012
Tekijät
Nikolaou, Nikolaos; Dimitrakis, Panagiotis; Normand, Pascal; Ioannou-Sougleridis, Vassilios; Giannakopoulos, Konstantinos; Mergia, Konstantina; Kukli, Kaupo; Niinistö, Jaakko; Ritala, Mikko; Leskelä, Markku
Organisaatiot ja tekijät
Julkaisutyyppi
Julkaisumuoto
Artikkeli
Emojulkaisun tyyppi
Lehti
Artikkelin tyyppi
Alkuperäisartikkeli:
Yleisö
TieteellinenVertaisarvioitu
VertaisarvioituOKM:n julkaisutyyppiluokitus
A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessäJulkaisukanavan tiedot
Lehti/Sarja
Emojulkaisun nimi
Volyymi
68
Sivut
38-47
ISSN
Julkaisufoorumi
Avoin saatavuus
Avoin saatavuus kustantajan palvelussa
Ei tietoa
Rinnakkaistallennettu
Ei tietoa
Muut tiedot
Tieteenalat
Kemia
Tunnistettu aihe
[object Object]
Julkaisumaa
Yhdistynyt kuningaskunta
Kustantajan kansainvälisyys
Kansainvälinen
Kieli
englanti
Kansainvälinen yhteisjulkaisu
Kyllä
Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa
Ei tietoa
DOI
10.1016/j.sse.2011.09.016
Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen
Kyllä