Influence of atomic layer deposition chemistry on high-k dielectrics for charge trapping memories
Julkaisuvuosi
2012
Tekijät
Nikolaou, Nikolaos; Dimitrakis, Panagiotis; Normand, Pascal; Ioannou-Sougleridis, Vassilios; Giannakopoulos, Konstantinos; Mergia, Konstantina; Kukli, Kaupo; Niinistö, Jaakko; Ritala, Mikko; Leskelä, Markku
Organisaatiot ja tekijät
Julkaisutyyppi
Julkaisumuoto
Artikkeli
Emojulkaisun tyyppi
Lehti
Artikkelin tyyppi
Alkuperäisartikkeli
Yleisö
TieteellinenVertaisarvioitu
VertaisarvioituOKM:n julkaisutyyppiluokitus
A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessäJulkaisukanavan tiedot
Lehti
Emojulkaisun nimi
Volyymi
68
Sivut
38-47
ISSN
Julkaisufoorumi
Avoin saatavuus
Avoin saatavuus kustantajan palvelussa
Ei tietoa
Rinnakkaistallennettu
Ei tietoa
Muut tiedot
Tieteenalat
Kemia
Julkaisumaa
Yhdistynyt kuningaskunta
Kustantajan kansainvälisyys
Kansainvälinen
Kieli
englanti
Kansainvälinen yhteisjulkaisu
Kyllä
Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa
Ei tietoa
DOI
10.1016/j.sse.2011.09.016
Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen
Kyllä