Ioni-istutuksen käyttö mikroelektroniikassa aiheutti vallankumouksen tietokoneiden valmistuksessa, kun se mahdollisti suuren skaalan piirien integroinnin piisiruille. Tämä johti halpojen tietokoneiden ja maailmanlaajuisen telekommunikaation kehitykseen. Normaali ioni-istutusmenetelmä ei kuitenkaan ole riittävän hyvä uusien teknologioiden kehitykseen, koska se ei anna tarkkaa kontrollia kidevirheiden sijainnista. Uudet kokeelliset laitteistot sallivat ultranopeiden ionipulssien muodostamisen, joka avaa ovia prosessin tarkempaan kontrolliin ja uuteen ioni-materiaalivuorovaikutuksen fysiikkaan. SPATEC-projektissa tulemme kehittämään uuden moniskaalamallinnus-menetelmän, jolla selitetään miten säteilytyksen stokastiset prosessit jotka ovat lähekkäin ajassa ja paikassa toimivat yhdessä, johtaen hyödylliseen kidevirheiden elpymiseen ja itseorganisointiin. Projektin tulokset tulevat mahdollistamaan uusia jännittäviä sovelluksia perustuen saostusatomien tarkkaan asemointiin materiaaleissa.

2022

2026