Characterization of wet chemistry resist and resist residues removal processes
Julkaisuvuosi
1999
Tekijät
Muukkonen, Esa; Häkkinen, Teija; Riihisaari, Tarja; Eränen, Simo; Luusua, Ismo; Kiviranta, Arto; Savolahti, Pekka
Organisaatiot ja tekijät
Teknologian tutkimuskeskus VTT Oy
Häkkinen Teija
Julkaisutyyppi
Julkaisumuoto
Artikkeli
Emojulkaisun tyyppi
Lehti
Artikkelin tyyppi
Alkuperäisartikkeli:
Yleisö
TieteellinenVertaisarvioitu
VertaisarvioituOKM:n julkaisutyyppiluokitus
A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessäJulkaisukanavan tiedot
Lehti/Sarja
Volyymi
T79
Sivut
255-258
ISSN
Julkaisufoorumi
Julkaisufoorumitaso
1
Avoin saatavuus
Avoin saatavuus kustantajan palvelussa
Ei
Rinnakkaistallennettu
Ei
Muut tiedot
Tunnistettu aihe
[object Object]
Kieli
englanti
Kansainvälinen yhteisjulkaisu
Ei
Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa
Ei
DOI
10.1238/Physica.Topical.079a00255
Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen
Ei